smee光刻机28纳米。据媒体报道，上海微电子装备（SMEE）股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机。虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志...

上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限。上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区...

国内电子专业有光刻机，不过从事光刻机这个专业的非常少。但是这个专业的前景非常好。

上海微电子市值有多少亿市值为1700亿美元。近期，上海微电子装备股份有限公司披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机从此前的90nm一举突破到28nm，不仅打开了上海微电子装备的市场空间，也打...

不可以。当然最先进的光刻机，是荷兰ASML公司制造的。由于受到专利，我国没法买ASML制造的光刻机。当前上海微电子已研发出支持28nm工艺的光刻机，首台已于2021年初交付客户。28nm虽然相当于荷兰ASML公司十年前的水平，但是...

这些企业已经在一些特定领域取得了突破性进展，例如华光光电研发的国内首台100纳米线宽金属钨光刻掩模版，上海微电子的28纳米节点ArF浸没式光刻机等。这些成果不仅打破了国外垄断，也为我国半导体产业的发展提供了强有力的支持。...

中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”。国产DUV光刻机产品很快就能成批推出、规模采用，据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020...

高端光刻机不能国产化，是中国半导体产业长期的痛。目前最先进的国产光刻机来自上海微电子，只能做到90nm制程，距离28nm以下的先进制程还很远。光刻机的国产化是复杂的系统工程，其中光源是核心组件之一，其波长范围决定了光刻...

也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机，这是一台国产浸没式DUV光刻机，可实现单次曝光28nm节点。所以网络里一直流传着这个...

虽然我们也有国产光刻机，但是就算是目前做得最好的上海微电子，目前也止步于90nm光刻机（上海微电子在日前宣布两年内可以下线28nm国产光刻机）。因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机...