因为就可以在更小的晶圆上刻出更大规模的集成线路什么的

波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高，因为衍射现象会更严重。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光...

波长越短的话激光的光束因子越小了，通常来说能够聚焦的光点就能够做的更小了，这个单位面积上能处理的数据就会更多，所以现在光刻机都是采用紫外的来做高精度制作了

加工精细度大。光刻机使用的光源波长越长，加工精细度越小，常用短波长光就是因为加工精细度大，光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形...

光刻机顾名思义就是用光进行雕刻，而光的波长越短，光刻的刀锋越锋利，刻蚀出的芯片精度就越高。DUV光刻机用的是193nm深紫外光，一般可用来雕刻130nm到22nm的芯片，而中国在这方面有黑 科技 ，理论上能将其极致推到...

二者之间的差距十分明显，波长越短，所能实现的分辨率越高。这让EUV光刻机能够承担高精度芯片的生产任务。3、制造精度不同：二者在精度上也相差甚远，DUV基本上只能做到25纳米，Intel凭借双工作台的模式做到了10纳米，但是却...

而极紫外光刻机则使用的是极紫外光源，其波长范围在10-121纳米之间。2、深紫外光刻机和极紫外光刻机的曝光分辨率也有所不同。由于极紫外光的波长更短，因此其曝光分辨率更高，可以制造出更精细的芯片结构。

光刻机的制造，是集合了很多门类科学顶尖技术的产物，包括光学、精密仪器、数学、机械自动化、流体力学等等。1、技术难点一：光源。如果把光想象成一把刻刀，那它的光波长越短，这把刀就会越锋利。7纳米的芯片意味着，在...

EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种用于制造高端芯片的先进设备。与传统光刻机不同的是，EUV光刻机使用的是极紫外光源，具有更短的波长和更高的分辨率，能够制造尺寸更小的芯片，如5nm芯片。2. EUV光刻技术的优点 与...

而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的。5nm是指处理器的制程工艺。(补充：晶体管之间的距离，距离越小晶体管就越多，所以性能就越好。